维多利亚老品牌vic3308

        全球采购
        人力资源
        联系我们
        投资者关系
        TOP

        KS-S300-E 单片湿法刻蚀机

        满足半导体制造中湿法刻蚀工艺，单片加工，适用于SiO2，SiN，Polysilicon和各种金属层的刻蚀，清洗等工艺流程。
        产品优势：

        1.利用位置、速度可控的摆臂喷洒化学液，可以有效的提高刻蚀均匀性
        2.分层式反应腔体设计，可以在同一腔体中喷洒多种化学液，并能有效回收，节约化学液
        3.叠层控制，占地面积小，最多可配置4个刻蚀单元

        应用领域：

        ●  半导体制造中湿法刻蚀工艺
        ●  高端封装领域中金属层刻蚀，满足UBM及RDL工艺要求
        ●  OLED 领域中金属及金属氧化物（ITO/IGZO）刻蚀、缓冲层成膜前的表面（SiO2）刻蚀清洗等工艺

        联系我们